2026/04/13 14:37  
美國國會立法者正準備通過《MATCH法案》，禁止ASML對中國出口深紫外光（DUV）設備。（路透）
〔財經頻道／綜合報導〕中國半導體產業面臨美國出口制裁衝擊可能擴大，美國政府透過荷蘭ASML公司間接禁止向中國出口極微影（EUV）設備後，現在國會立法者正準備通過《MATCH法案》，禁止ASML對中國出口深紫外光（DUV）設備。
中國長期以來一直在與美國的出口限制作鬥爭，尤其是在半導體領域。ASML禁止向中國出口極紫外光微影設備後，中國半導體產業遭受巨大打擊。雖然這促使北京加強建構國內晶片供應鏈的努力，但也限制中國在製程競賽中取得領先地位，這也是為什麼「官方」中國目前只能達到5奈米製程的原因。
華為、中芯國際、華虹等中國晶片巨頭，以及長江儲存、長城電子等記憶體製造商，都完全依賴深紫外曝光技術來實現各自的生產目標。
中芯國際在其N+1/N+2 7奈米製程中使用ASML的深紫外曝光設備，並透過多重曝光技術實現這項製程。同時，長江儲存和長城電子也利用深紫外光微影設備來擴大記憶體產能。鑑於國內晶片巨頭一直在競相提升產能，潛在的深紫曝光設備禁令可能會嚴重阻礙這些努力。
《MATCH法案》提議禁止「銷售或維修」深潛成像技術，並聲稱該設備正被用於中國軍事技術的現代化。該法案還提議，所有上述成像技術用戶都將面臨類似《實體法》的限制，這將禁止他們進入外國市場。《MATCH法案》目前仍在討論中，尚未簽署成為法律。