2026/05/26 05:30  
全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾（ASML）副總裁暨台灣總經理汪佳慧昨宣布，ASML規劃今年在台灣招募約一千名人才。（ASML提供）
〔記者洪友芳／新竹報導〕全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾（ASML）副總裁暨台灣總經理汪佳慧昨宣布，ASML規劃今年在台灣招募約一千名人才，涵蓋客戶支援、生產製造及供應鏈等領域，為公司未來成長與客戶需求做好準備，薪酬極具競爭力。
汪佳慧去年從英特爾轉戰ASML，昨現身分享ASML永續發展策略與在台最新進展。她表示，隨著人工智慧（AI）帶動全球半導體需求持續成長，ASML今年預計在台灣招募近千位人才，其中新北廠職缺多達三〇〇個。
汪佳慧說，ASML將持續深化在地人才布局與技術支持能力，與台灣半導體生態系共同成長；她也分享ASML永續發展藍圖，強調正從產品、營運及整體價值鏈著手，推動全方位永續轉型。
她表示，ASML透過提高產能與簡化製程曝光次數，幫助客戶降低生產單位晶圓的能耗，以因應AI與高效能運算持續成長所帶來的晶片需求與能源挑戰。以旗艦機型3800E為例，其產能已從每小時二二〇片晶圓提升至二三〇片，且預計在二〇三〇年前將整體極紫外光（EUV）設備的晶片產量提升五十％。
在能耗表現上，她指出，自二〇一八年以來，EUV設備每次晶圓曝光的能耗已降低五十七％ ，而透過新一代High NA EUV的導入，將關鍵層的多重曝光製程簡化為單次曝光，也可達到提高良率、縮短生產週期與降低單位晶圓製造成本和能耗的目標。