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長鑫出大招 完成「4F²」設計 DRAM 市場嚇壞
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來源:
財經刊物
發佈於 2026-10-14 04:59
長鑫出大招 完成「4F²」設計 DRAM 市場嚇壞
經濟日報|2026.10.14 03:32
大陸DRAM龍頭長鑫存儲稱領先全球同業,完成記憶體新的單元架構「4F²」設計,藉此提高DRAM密度,預計今年底前推出以該架構設計的DDR5產品,揮軍伺服器市場。
這意味著長鑫存儲正將產品線從低階消費性電子,全面跨足企業級伺服器基礎設施與AI資料中心領域,恐進而打破現有國際記憶體定價體系,並加速侵蝕產業整體毛利率。長鑫存儲技術大躍進,市場憂心「紅鏈恐打亂記憶體市場一池春水」,引發全球記憶體股大跳水,韓股昨(13)日更一度跌到熔斷。
市場擔心的是,若長鑫存儲4F²設計量產成功,其DRAM技術將逼近甚至超越三星、SK海力士,牽動全球記憶體股。彭博資訊分析,長鑫存儲正在縮小落後三星、SK海力士及美光等三大記憶體原廠的技術差距,可能撼動記憶體市場的「三強鼎立」局面。
綜合外媒報導,長鑫存儲總裁曹堪宇上周末在上海一場產業活動上表示,計劃在今年底前推出根據4F²設計的新款伺服器記憶體產品。
業界分析,F代表一顆半導體的最小線寬,4F²設計內,每個記憶體單元占據的面積為4F的平方,能在單一晶片放入更多單元,提高儲存密度。相較下,目前主流的商用DRAM採用6F²單元架構。
長鑫存儲預期,將在今年底前發表新一代DDR5 RDIMM,專為企業級伺服器設計的記憶體模組,也將納入這種先進技術,但未透露規格細節或發表時間。
長鑫存儲表示,其4F²設計的核心為自有的垂直環繞閘極(VSG)電晶體,能運用垂直閘極架構處理目前的記憶體流失問題,同時大幅縮減單位面積、又提高儲存密度。但由於現有的製造流程無法完全配合這種新架構,長鑫存儲必須重新設計關鍵製程,優化效能功耗比。
目前全球主要DRAM製造正在追求4F²技術,SK海力士在2025年發表4F²發展路線圖,南韓媒體4月則報導,三星計畫在2028年前,根據4F²設計,量產10奈米以下的DRAM。
長鑫存儲宣稱今年底前就能推出以4F²技術打造的DDR5相關產品,腳步比南韓兩大記憶體巨頭快,市場憂心紅鏈技術一旦超車三大原廠,恐打亂市場秩序,現階段記憶體供不應求、價格暴漲的榮景恐隨之落幕。
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