2025/08/14 11:28  
屹唐半導體指控美國應用材料（Applied Materials）非法竊取核心技術。（路透資料照）
高佳菁／核稿編輯
〔財經頻道／綜合報導〕中國半導體設備廠北京屹唐半導體科技股份有限公司（簡稱屹唐半導體），指控美國應用材料（Applied Materials）非法竊取其等離子體源及晶圓表面處理核心技術，並在中國境內以專利申請方式揭露，遂向北京知識產權法院提告，求償9999萬元人民幣（約新台幣4.1億元）。
綜合中國媒體報導，案件已立案，尚未開庭審理。
屹唐半導體公告稱，應材招聘兩名曾在原告全資子公司Mattson Technology（MTI）工作的涉案員工，且招聘的兩位員工了解公司關於等離子體的產生和處理方法的核心技術，熟悉和掌握相關設備結構以及技術流程。
但根據證據顯示，應材在招募該兩名員工入職後，向中國國家智慧財產權局提交了1份發明專利申請，其中主要發明人即為前述兩名員工，該專利申請披露了原告與MTI公司共同所有的涉案技術機密。
因認為應用材料公司非法獲取並使用了公司的等離子體源，及晶圓表面處理相關的核心技術秘密，還在中國境內以申請專利的方式披露了該技術秘密，且將該專利申請權據為己有，構成侵犯商業秘密的行為，因此向北京知識產權法院提起訴訟，訴訟金額為人民幣9999萬元。